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氮化鈦涂層物理氣相堆積法優(yōu)缺陷有哪些

發(fā)表于:2024-05-24 來源:

 氮化鈦涂層物理氣相堆積法優(yōu)缺陷有哪些
氮化鈦涂層多弧堆積辦法的優(yōu)缺陷:
      氮化鈦涂層多弧堆積辦法( MAP)是一種使用廣泛的物理氣相堆積技能,具有高的離化率和堆積離子能量,有助于反響成膜、進步薄膜質(zhì)量及薄膜與基體的結(jié)合力。
缺陷:

     多弧技能堆積的涂層中殘留了由陰極材料射出的微觀顆粒(即所謂的“液滴”)。這些顆粒粒徑可達數(shù)十微米,導(dǎo)致涂層強度削弱、表面粗糙度添加、膜層均勻性降低一級缺陷,使其在較惡劣工作環(huán)境下的使用受到束縛??锥慈毕菀彩请娀‰x子鍍膜中普遍存在的一種缺陷,依據(jù)不同的鍍膜方式與工藝條件所制備的薄膜,其孔洞缺陷不同也很大。別的,疏松與縫隙也是電弧離子鍍氮化鈦涂層中呈現(xiàn)的缺陷。

<a href=http://itexchange.cn/news_article?news_id=123>氮化鈦涂層</a>

優(yōu)點:
     氮化鈦涂層該辦法使用磁場發(fā)生的旋轉(zhuǎn)力進步弧斑的旋轉(zhuǎn)運動速度,減少弧斑在靶面的停留時間,然后減小弧斑規(guī)范,在一定程度上消除微觀粒子團,減少柱狀結(jié)構(gòu),制備的氮化鈦涂層結(jié)構(gòu)愈加細密、表面愈加光滑、晶粒較為纖細。選用FCAP辦法制備的氮化鈦涂層具有更高的硬度和結(jié)合力。

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