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氮化鈦涂層可制備哪些復合涂層

發(fā)表于:2024-12-04 來源:

氮化鈦涂層可制備哪些復合涂層

一、Al/TiN的復合涂層

氮化鈦涂層中鋁元素的參與,有用改進了抗氧化能力,提高了運用溫度的規(guī)劃,其關鍵在于TiN/Al涂層在高溫時氧的分散形成了Al2O3膜。用磁過濾多弧離子鍍的方法,在-1 kV的偏壓下,在-400 V下先鍍底層鋁,再在-200 V下鍍氮化鈦,將制得的AL/TiN涂層與單層TiN涂層在空氣活動的箱式爐中做抗氧化功能對比實驗,效果得出在550C時,保溫20 h,Al/TiN顏色略有改動,而TiN薄膜此刻顏色現(xiàn)已產生較大的改動,產生了氧化分解,氧化產物為TiO2。

二、Ti/TiN的復合涂層

氮化鈦涂層中參與鈦過渡層會降低涂層試樣的表面硬度,同時也降低了承載能力。不過鈦過渡層的引入并沒有引起氮化鈦涂層硬度值較大改動,涂層的硬度主要與N與Ti2之比和氮化鈦涂層的孔隙率有關。鈦過渡層的引入除可以提高粘著強度外,還可以提高氮化鈦涂層的抗腐蝕功能。

當然,為了更好地提高涂層功能,也可以進行Ti/TiN/Ti/TiN等多層復合。別的,在增加鈦中間層后,涂層的厚度沒有出現(xiàn)迭加;相反,在相同條件下,堆積的Ti/TiN涂層的厚度比單層氮化鈦的厚度還減小。這是因為,在基體上堆積得到的涂層關于有沒有中間層得到的厚度是不一樣的,并且被基體所吸收的涂層材料也是不一樣的?! ?nbsp;      

三、TiN/Cr涂層

選用電弧離子鍍制備方法,可以對獨立的鈦靶材和鉻靶材的弧電流進行控制,在高速鋼基體上制備不同成分配比TiN/Cr涂層。

TiN/Cr涂層中的鉻原子部分置換氮化鈦晶格中的鈦原子,且部分與N反應生成氮化鉻、一氮化二鉻或以單質的方法存在。因為鉻原子的參與,提高了TiN/Cr涂層的致密度,增強了涂層的耐腐蝕性。

四、Ti/Fe/Cr/N多元涂層

將不銹鋼條鑲在Ti中形成組合靶,經過選用多弧離子鍍技能在高速鋼基體上成功地堆積上質量出色的Ti/Fe/Cr/N多元涂層。在研討中發(fā)現(xiàn)Ti/Fe/Cr/N多元涂層的硬度、強度和耐蝕功能優(yōu)于TiN涂層。這是因為與TiN涂層比較,Ti/Fe/Cr/N多元涂層孔隙度較低。

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五、以TiN為過渡層的復合涂層

用脈沖激光堆積( PLD)技能在藍寶石上堆積AIN/TiN雙層,可提高其半導體功能。又例如,SiC/TiN作為過渡層起著聯(lián)接SiC和基體的效果,解決了SiC 直接堆積在基體上的不匹配性,提高了SiC的承載能力。SiC/TiN 復合涂層能提高涂層與基體的結合能,然后延長鉆頭的作業(yè)壽數(shù)。

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